真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜是一種鍍膜工藝，是被眾多人熟知和市面應用最廣泛的鍍膜工藝，應用到光學行業，我們一般稱之為光學磁控濺射鍍膜設備，應用到裝飾行業，一般我們稱之為裝飾真空鍍膜設備，應用到卷繞行業，我們一般稱之為卷繞真空鍍膜設備。磁控濺射鍍膜技術幾乎在每個行業都有應用到，也被眾多廠家所認可。

       1.真鍍膜設備磁控濺射原理：
       真空鍍膜設備磁控濺射法是一種較為常用的物理沉積法。磁控濺射是在真空室中，利用低壓氣體放電現象，使處于等離子狀態下的離子轟擊靶表面，并利用環狀磁場控制輝光放電，使濺射出的粒子沉積在基材上。磁控濺射可以 方便地鍍制高熔點物質的薄膜層，在很大面積上可以鍍制均勻的膜層。 

       2.真空鍍膜設備磁控濺射工藝流程：
       在鍍膜過程中，工藝的選擇對薄膜的性能具有重要的影響，根據磁控濺射技術原理，結合設備的實際應用，對膜層的要求厚度范圍為nm～μm數量級， 膜厚＜550nm，如對光有干涉作用，屬于薄膜范疇，通常稱光學薄膜技術。

       3.真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜的特點：濺射速率高，沉積速率高。濺射源的靶材具有極強的DIY選擇組合。
       真空鍍膜設備磁控濺射陰極源是一個較為理想的可控源，沉積的膜層厚度與濺射源的功率或放電電流有較好的線性相關性，所以有較好的可控性， 能較好地實現批量生產產品的一致性和重復性。濺射源可較理想地置于真空室內長時間穩定工作，獲得純正的膜層，提高真空鍍膜附著力確保膜層質量。

       4.真空鍍膜設備磁控濺射高真空的獲?。?br />        真空是一種不存在任何物質的空間狀態，是一種物理現象。在“真空” 中，聲音因為沒有介質而無法傳遞，但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。 事實上，在真空技術里，真空是針對氣體而言，一般而言，高真空的獲取是通過油擴散泵，油擴散泵能比機械泵獲取更高的真空度。