我們市面上好多產品都是通過磁控濺射方式進行鍍膜的，磁控濺射技術是最常見的一種鍍膜方式，也被眾多真空鍍膜設備廠家所青睞，那么真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜膜層有哪些優點呢，下面匯成真空小編為大家詳細介紹一下：
以濺射的方法進行真空鍍膜，由于其鍍膜方式的不同，同樣的鍍材所制備的薄膜效果也會不一樣的，雖然肉眼無法看出來，但確實擁有一定的優勢。
膜厚穩定性好，由于濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的關系，電流越高，濺射效率越大，相同時間內，所鍍膜層的厚度相對就大了，因為只要把電流數值控制好，需要鍍多厚，或者多薄的膜層都可以了，當然這個厚度是在可允許的范圍內，而且控制好電流，無論重復鍍多少次，膜層厚度都不會變化，膜厚的穩定性可歸結為膜厚良好的可控性和重復性。
膜層結合力強，在濺射過程中，有部分電子撞擊到基材表面，激活表面原子，并且產生清潔的作用，而鍍材通過濺射所獲得的能量比蒸發所獲得的能量高出1到2個數量級，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材表面時，有更多的能量可以傳遞到基材上，產生更多的熱能，使被電子激活的原子加速運動，與部分鍍材原子更早互相溶合到一起，其他鍍材原子緊隨著陸續沉積成膜，加強了膜層與基材的結合力。
鍍材范圍廣，由于
真空鍍膜設備濺射鍍膜是通過氬離子的高速轟擊使鍍材濺射出來的，不像蒸發鍍膜由于熔點的原因而限制只能使用熔點比較低的鍍材，而濺射鍍膜幾乎所有固體的物質都可以成為鍍材。
由以上幾點可以看出濺射真空鍍膜確實比蒸發真空鍍膜的效果好，其原理的不同決定了濺射制備的膜層厚度更穩定，結合力更強，鍍材范圍更廣。
