離子真空鍍膜機在真空室內采用真空弧光放電技術，在陰極材料表面產生弧光，使陰極材料形成原子和離子。在電場的作用下，原子和離子束高速轟擊作為陽極的工件表面。與此同時向真空室內通入反應氣體，即可在工件表面形成具有優良性能的鍍層。
（1）鍍層附著性好，膜層不易脫落；
（2）繞鍍性好，改善了表面的覆蓋度；
（3）鍍層質量好；
（4）沉積速率高，成膜速度快；
（5）鍍膜所適用的基體材料與膜材范圍廣
離子真空鍍膜機鍍膜技術應用廣泛，利用離子鍍技術，可以在金屬、合金、導電材料、甚至非導電材料基體上進行鍍膜，離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜，、多元合金膜，化合物膜；既可以鍍單一鍍層，也可鍍復合鍍層，還可以鍍梯度鍍層等等，采用不同的膜材，不同的反應氣體以及不同的工藝方法和參數，可以獲得表面強化得硬度耐磨鍍層、致密且化學性質穩定得耐蝕層、固定潤滑鍍層、各種色澤得裝飾鍍層，。目前離子真空鍍膜機鍍膜技術和鍍層產品已得導非常廣泛得應用
