日常生活中所接觸的大部分物品，都是經過真空鍍膜機鍍上了一層薄薄的膜層，有的啟到裝飾的作用，讓表面膜層更加絢麗和多彩，有的是為了改變產品部件表面的性能，讓其滿足在日常特定環境中使用需求，從而改變我們生活質量。從事真空鍍膜行業的朋友都知道，真空鍍膜機鍍工件，有好幾種鍍膜方式，需要根據產品工件的特性，以及要到達的效果和使用環境去選擇鍍膜方式的，需要的效果不一樣，采用的鍍膜工藝是有差別的。真空蒸發、濺射 、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法，希望能幫助到大家：
一、電子束蒸發
電子束蒸發是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發源，使其蒸發并沉積在基片表面而形成薄膜。
特征：真空環境；蒸發源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場控制蒸發的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。
二、濺射沉積
濺射是與氣體輝光放電相聯系的一種薄膜沉積技術。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等，而用得較多的是磁控濺射、中頻濺射、直流濺射、RF濺射和離子束濺射。
特征：在真空室內充入放電所需要的惰性氣體(如氬氣)，在高壓電場作用下氣體分子因電離而產生大量正離子。帶電離子被強電場加速，便形成高能量的離子流轟擊蒸發源材料(稱為靶)。在離子轟擊下，蒸發源材料的原子將離開固體表面，以高速度濺射到基片上并沉積成薄膜。
三、RF(射頻)濺射
RF濺射使用的頻率約為13.56MHz，它不需要熱陰極，能在較低的氣壓和較低的電壓下進行濺射。RF濺射不僅可以沉積金屬膜，而且可以沉積多種材料的絕緣介質膜，因而使用范圍較廣。
四、電弧離子鍍
陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積，該技術材料的離化率更高，薄膜性能更加優異。
五、過濾陰極弧
過濾陰極電弧(FCA )配有高效的電磁過濾系統，可將弧源產生的等離子體中的宏觀大顆粒過濾掉， 因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與機體的結合力很強。
六、離子束
離子束加工是在真空條件下，先由電子槍產生電子束，再引入已抽成真空且充滿惰性氣體之電離室中，使低壓惰性氣體離子化。由負極引出陽離子又經加速、集束等步驟，獲得具有一定速度的離子投射到材料表面，產生濺射效應和注入效應。由于離子帶正電荷，其質量比電子大數千、數萬倍，所以離子束比電子束具有更大的撞擊動能，是靠微觀的機械撞擊能量來加工的。
以上六種是日常最常見的
真空鍍膜機鍍膜方式，也是使用最普遍的鍍膜工藝，在市場上也是占比很大的比例，受到市場各位廠家的青睞。
